Intel、IBM的芯片制造厂他都进去过，从九十年代一直到2023年，国外光刻机一路演变，他还是清楚的。</p>
“436纳米的蓝光汞g线光源，加上非接触式掩膜曝光工艺，理论上可以制造一微米制程的芯片！”</p>
若采用多重曝光甚至可以制造500纳米制程的芯片，或者水膜浸润工艺，当然技术难度更高一些，极致可以制造250纳米芯片，这些话没办法说。</p>
至于用九十年代发明的KBBF晶体升级极紫外光，还有双工台提升商用制造效率，现在还是没影的事。</p>
能不能现在开始布局？</p>
没说的，肯定要干啊！</p>
赵国庆的问题，何振华教授没有回答，而赵国庆也发现了一些问题。</p>
“校准采用的是人工校准！”</p>
光刻流程不是一步到位，有时候需要反复多次，所以再次光刻，位置如果有细微的改变，往往意味着制造失败，所以需要校准。</p>
而校准的办法就是在晶片上留下一个标志，以这个标志来校正。</p>
何振华摇摇头。</p>
“国内最先进的魔都电机厂都没有合适的伺服电机，国内的光压传感器灵敏度不够，只能用人工校准，我们采用三轴人工校准装置，误差可以精确在一百纳米。”</p>
赵国庆摇摇头，这台光刻机根本没有商业方面的使用前途，XYZ三轴人工校准，虽然没看他们操作，时间上肯定不会短。</p>
“光刻胶，蚀刻氟化氢……”</p>
“进口日本的？”</p><div id='gc1' class='gcontent1'><script type='text/javascript'>try{ggauto();} catch(ex){}</script>